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      射頻輝光放電光譜儀(GD)

      簡要描述:輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)的強(qiáng)有力手段,可以通過元素變化獲得鍍層結(jié)構(gòu)、層間擴(kuò)散、元素富集、表面處理、鍍層均一性等信息,從而改善工藝條件等。主要應(yīng)用行業(yè)有金屬冶金、半導(dǎo)體器件、LED芯片、薄膜太陽能電池、鋰電池陰陽極、光學(xué)玻璃、核材料等。

      • 產(chǎn)品型號:HORIBA GD Profil
      • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
      • 更新時(shí)間:2024-06-04
      • 訪  問  量:5011

      詳細(xì)介紹

      解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)——Profiler 2



      輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)的強(qiáng)有力手段,可以通過元素變化獲得鍍層結(jié)構(gòu)、層間擴(kuò)散、元素富集、表面處理、鍍層均一性等信息,從而改善工藝條件等。主要應(yīng)用行業(yè)有金屬冶金、半導(dǎo)體器件、LED芯片、薄膜太陽能電池、鋰電池陰陽極、光學(xué)玻璃、核材料等。


      GD-Profiler 2 作為超快鍍層分析的理想工具,非常適合于導(dǎo)體和非導(dǎo)體復(fù)合鍍層的分析,操作簡單、便于維護(hù),是鍍層材料研發(fā)、質(zhì)控的理想工具。

      · 使用脈沖式射頻輝光源,可有效分析熱導(dǎo)性能差以及熱敏感的樣品。

      ·  采用多項(xiàng)技術(shù),如高動態(tài)檢測器(HDD),可測試ppm-100%的濃度范圍,Polyscan多道掃描的光譜分辨率為18pm~25pm等。

      ·  分析速度快(2-10nm/s



      技術(shù)參數(shù):

      1、射頻發(fā)生器-標(biāo)準(zhǔn)配置、復(fù)合D級標(biāo)準(zhǔn)、穩(wěn)定性高、濺射束斑極為平坦、等離子體穩(wěn)定時(shí)間極短,表面信息無任何失真。

      2、脈沖工作模式既可以分析常規(guī)的涂/鍍層和薄膜,也可以很好地分析熱導(dǎo)性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜。

      3、Polyscan多道(同時(shí))光譜儀可全譜覆蓋,光譜范圍從110nm-800nm,可測試遠(yuǎn)紫外元素C、H、O、N和Cl。

      4、HORIBA的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有最大的光通量,因而擁有的光效率和靈敏度。

      5、高動態(tài)檢測器(HDD)可快速、高靈敏的檢測ppm-100%含量的元素。動態(tài)范圍為5×1010

      6、寬大的樣品室方便各類樣品的加載。

      7、功能強(qiáng)大的Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測報(bào)告。

      8、HORIBA*的單色儀(選配)可極大地提高儀器靈活性,可實(shí)現(xiàn)固定通道外任意一個(gè)元素的同步測試,稱為n+1。

      9、適用于ISO14707和16962標(biāo)準(zhǔn)。


      儀器原理:

      輝光放電腔室內(nèi)充滿低壓氬氣,當(dāng)施加在放電兩極的電壓達(dá)到一定值,超過激發(fā)氬氣所需的能量即可形成輝光放電,放電氣體離解為正電荷離子和自由電子。在電場的作用下,正電荷離子加速轟擊到(陰極)樣品表面,產(chǎn)生陰極濺射。在放電區(qū)域內(nèi),濺射的元素原子與電子相互碰撞被激化而發(fā)光。


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